设备简述：TS-JRP PECVD卷绕镀膜设备是一种采用等离子增强化学气相沉积技术（PECVD）成膜的卷绕式真空镀膜设备。

设备应用：主要用于对有机薄膜、纺织布料、皮革、金属箔材等柔性材料表面沉积如氧化硅、氮化硅膜等高阻隔膜或保护膜等功能膜层或者进行柔性材料表面等离子清洗处理及等离子表面改性等用途。产品可以广泛应用在药品包装、电子封装材料、纺织布料/皮革表面处理等领域。

设备特点：在柔性卷绕的基材表面上采用PECVD气相沉积方法成膜。设备采用平板式或者辊筒式电极，配置高压、MF或者RF电源。设备具有沉积效率高、膜层结合力好、膜层致密度高等优点。设备接受客户订制，可以镀制的基材幅宽从350mm到2050mm。